ÉLÉMENT D'ÉMISSION D'ÉLECTRONS, DISPOSITIF D'ÉMISSION D'ÉLECTRONS, DISPOSITIF DE CHARGE, DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGE, DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE PAR RAYONNEMENT D'ÉLECTRONS, DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT, DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE, DISPOSITIF SOUFFLEUR, DISPOSITIF DE REFROIDISSEMENT, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION POUR ÉLÉMENT D'ÉMISSION D'ÉLECTRONS
An electron emission element (1) comprises an electrode substrate (2) and a thin film electrode (3), and emits electrons from the thin film electrode (3) by applying voltage between the electrode substrate (2) and the thin film electrode (3). Between the electrode substrate (2) and the thin film electrode (3) at least an electron acceleration layer (4) comprising insulating microparticles (5) is provided. The electrode substrate (2) is provided with recesses and protrusions, and openings (6) are formed in the thin film electrode (3) above the protrusions of the electrode substrate (2).La présente invention concerne un élément d'émission d'électrons (1) qui comprend un substrat d'électrode (2) et une électrode à film mince (3), et qui émet des électrons à partir de l'électrode à film mince (3) en appliquant une tension entre le substrat d'électrode (2) et l'électrode à film mince (3). Au moins une couche d'accélération d'électrons (4) qui comprend des microparticules isolantes (5) est prévue entre le substrat d'électrode (2) et l'électrode à film mince (3). Le substrat d'électrode (2) est pourvu d'évidements et de protubérances, et des ouvertures (6) sont formées dans l'électrode à film mince (3) au-dessus des protubérances du substrat d'électrode (2).電子放出素子（１）は、電極基板（２）と薄膜電極（３）とを備え、電極基板（２）と薄膜電極（３）との間に電圧を印加することによって、電子を薄膜電極（３）から放出する。電極基板（２）と薄膜電極（３）との間には、少なくとも絶縁体微粒子（５）からなる電子加速層（４）が設けられている。電極基板（２）は凹凸を備えており、電極基板（２）の凸部上の薄膜電極（３）に開口部（６）が形成されている。
