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Deposition apparatus for High-Density Thin Film Deposition
专利权人:
INNOVATION FOR CREATIVE DEVICES CO., LTD.
发明人:
LEE, SEUNG HO,LEE, MYUNG SOO,JUNG, BOO YONG,KIM, MOON JU
申请号:
KR20170080533
公开号:
KR20180002525(A)
申请日:
2017.06.26
申请国别(地区):
韩国
年份:
2018
代理人:
摘要:
박막의 생성 및 결합 조건을 조절함으로써 고품질의 박막을 제조할 수 있는 고밀도 박막증착을 위한 증착장치가 개시된다. 이는 반응가스에 의한 플라즈마와 소스가스에 의한 플라즈마를 처리실과 분리된 공간에서 각각 분리하여 형성한 후 처리실 내부로 유입되도록 함으로써 챔버 내부의 오염 정도를 최소화 할 수 있기 때문에 설비 가동시간의 증대와 운영비의 절감을 가져올 수 있다. 또한, 노즐부의 높이 및 각도를 피처리 기판의 막의 특성 및 공정 조건에 따라 다양한 형태로 배치 가능하므로 증착 면적 및 증착 속도를 조절할 수 있어 생산성을 향상시킬 수 있는 고밀도 박막증착을 위한 증착장치를 제공한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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