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PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE TRAITEMENT AU PLASMA POUR PLANTES
专利权人:
KHEMIRA, Habib;JAZAN UNIVERSITY;KHEMIRA;MUJAHID, Zaka-ul-islam; Habib
发明人:
KHEMIRA, Habib,MUJAHID, Zaka-ul-islam
申请号:
IBIB2018/000274
公开号:
WO2018/158638A1
申请日:
2018.02.28
申请国别(地区):
IB
年份:
2018
代理人:
摘要:
A system and method for treating a plant structure (bulbs, corms, tubers, rhizomes, buds, cuttings and whole plants) with low-temperature plasma to increase one or more growth and development characteristic of the plant and reduce microbial attacks. The plasma device is a portable or mobile plasma device powered by a DC or high-frequency power source. The plant structure is inserted into an enclosure containing the plasma. Alternatively, the plasma device is moved to treat the whole plant structure.L'invention concerne un système et un procédé pour traiter une structure végétale (bulbes, cormes, tubercules, rhizomes, bourgeons, boutures et plantes entières) avec un plasma à basse température afin d'augmenter une ou plusieurs caractéristiques de croissance et de développement de la plante et de réduire les attaques microbiennes. Le dispositif à plasma est un dispositif à plasma portatif ou mobile alimenté par une source d'alimentation à courant continu ou à haute fréquence. La structure végétale est insérée dans une enceinte contenant le plasma. En variante, le dispositif à plasma est déplacé pour traiter l'ensemble de la structure végétale.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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