用于对X射线成像设备进行校准的测试对象
- 专利权人:
- 皇家飞利浦有限公司
- 发明人:
- H-I·马克,T·克勒
- 申请号：
- CN201780035593.7
- 公开号：
- CN109310383A
- 申请日:
- 2017.08.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 公开了一种用于相对于暗场成像校准X射线成像系统的校准方法和对应的对象。校准对象(1)通常包括多个部分(10、20),其中,部分的至少一部分分别包括两种不同的材料。对应的部分中的一种材料(101、201)导致通过的X射线射束的衰减,并且另一材料(102、202)是导致入射X射线的小角度散射信号的暗场活性材料。一个部分中两种材料的比率从部分到部分变化。校准对象能够被用于相对于暗场可见度的非线性行为校准X射线成像系统。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
