X射线暗场成像中的射束硬化校正
- 专利权人:
- 皇家飞利浦有限公司
- 发明人:
- A·亚罗申科,H-I·马克,T·克勒,F·德马尔科,L·B·格罗曼,K·维勒,P·诺埃尔
- 申请号：
- CN201880033090.0
- 公开号：
- CN110636796A
- 申请日:
- 2018.17.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及包括第一材料和第二材料的对象的X射线暗场成像中的射束硬化校正,第一和第二材料具有不同的射束硬化性质。由于X射线成像数据包括关于成像对象的内部结构的信息,因此这样的信息可以连同适当的校准数据一起用于识别在对象的成像区中发生的射束硬化贡献,从而允许对由于X射线暗场成像中的射束硬化的伪影的校正。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
