暗场或相衬X射线成像中的特征抑制

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专利权人:

皇家飞利浦有限公司

发明人:

H-I·马克

申请号：

CN201780027541.5

公开号：

CN109074636A

申请日:

2017.05.04

申请国别(地区):

CN

年份:

2018

代理人:

摘要：

本发明涉及一种用于暗场或相衬X射线成像中的特征抑制的装置(10)。所述装置包括输入单元(20)、处理单元(30)和输出单元(40)。所述输入单元被配置为向所述处理单元提供目标的感兴趣区域的X射线衰减图像。所述输入单元还被配置为向所述处理单元提供所述目标的所述感兴趣区域的暗场或相衬X射线图像。所述处理单元还被配置为:在所述X射线衰减图像中识别第一特征;在所述X射线衰减图像中识别第二解剖特征;并且在所述暗场或相衬X射线图像中识别所述第二解剖特征。所述第一特征是在所述X射线衰减图像中描绘的、具有比在所述暗场或相衬X射线图像中更高的对比度的遮蔽解剖特征。所述处理单元还被配置为基于识别出的第二解剖特征将所述暗场或相衬X射线图像配准到所述X射线衰减图像。所述处理单元被配置为在所述X射线衰减图像中确定所述第一特征的位置并且在所述暗场或相衬X射线图像中对所述第一特征进行定位,所述定位包括通过将所确定的位置转移到所述暗场或相衬X射线图像来利用与在所述X射线衰减图像中识别出的所述第一特征有关的信息。所述处理单元还被配置为抑制所述暗场或相衬X射线图像中的所述第一特征,以生成特征抑制的暗场或相衬X射线图像。并且所述输出单元被配置为输出表示所述特征抑制的暗场或相衬X射线图像的数据。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/