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組成物
专利权人:
インノスペック リミテッド
发明人:
コトレル フィリップ
申请号:
JP2012523387
公开号:
JP2013501039A
申请日:
2010.08.02
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
(I) Anionic surfactant (a) the compound of formula (I) [wherein, represents a C 4-36 hydrocarbyl group, a substituted or unsubstituted, R 1 is, each R 5 and 3, R 4 R 2, R, independently represent hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group, one at least not hydrogen and R 5 3, R 4 R 2, R, M + and] represents a cation, (b) an amphoteric surfactant includes the door, the molar ratio of component (a) to component (b) is 0.25: 1 to 4: 1, including 3wt% less than polyethoxylated non-ionic species, hypo-allergenic cleaning composition.(I)(a)式(I)のアニオン性界面活性剤化合物[式中、R1は、置換又は非置換のC4-36ヒドロカルビル基を表し、R2、R3、R4及びR5はそれぞれ、水素原子又はC1-4アルキル基を独立に表し、R2、R3、R4及びR5の少なくとも1つは水素でなく、M+はカチオンを表す]と、(b)両性界面活性剤とを含み、成分(a)対成分(b)のモル比が0.25:1~4:1であり、ポリエトキシ化非イオン種を3wt%未満含む、低刺激性洗浄組成物。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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