FILM SURFACE TREATMENT DEVICE AND SYSTEM

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专利权人:

주식회사 엘지화학

发明人:

전재형,여정현,박원찬

申请号：

KR20150136439

公开号：

KR20170037200(A)

申请日:

2015.09.25

申请国别(地区):

韩国

年份:

2017

代理人:

摘要：

본 발명은 필름의 표면 처리 장치 및 시스템을 개시한다. 본 발명에 따른 필름의 표면 처리 장치는, 필름을 유동시키는 롤; 상기 롤에 의해 유동되어 챔버의 내부로 유입되는 필름을 표면 처리하는 전극; 상기 챔버의 내부에 위치하여, 상기 전극과 상기 필름 사이에 가스를 공급하는 적어도 하나 이상의 가스 공급부; 및 상기 챔버와 상기 롤의 일부를 감싸도록 설치되되, 상기 필름의 유동을 방해하지 않도록 상기 필름을 유동시키는 롤의 일부를 덮어 상기 필름과 상기 전극 사이에 산소가 유입되는 것을 방지하는 래버린스 실(Labyrinth Seal);을 포함한다.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/