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CHITOSAN SPREADING SYSTEM USING LOW TEMPERATURE AND ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA
专利权人:
ELECTRONICS AND TELECOMMUNICATIONS RESEARCH INSTITUTE;한국전자통신연구원
发明人:
KIM, YARK YEON,김약연,YU, HAN YOUNG,유한영,YUN, YONG JU,윤용주,JANG, WON ICK,장원익
申请号:
KR1020100124441
公开号:
KR1020120063321A
申请日:
2010.12.07
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要:
PURPOSE: A chitosan coating device using low temperature atmospheric pressure plasma is provided to improve absorption and adhesive properties by coating chitosan on skin. CONSTITUTION: A chitosan coating device comprises a dielectric tube(110), a power electrode(122), a ground electrode(124), a power supply unit(132), a carrier gas supply section(140), and a chitosan feed port(150). The dielectric tube can have a hollow cylinder form and can be composed of dielectrics such as quartz and alumina. The first electrode is installed within the dielectric tube. The power supply unit applies power in the first electrode. The carrier gas supply section provides carrier gas to an inlet of gas. The chitosan feed port provides chitosan to the low temperature atmospheric pressure plasma.저온 대기압 플라즈마를 이용한 키토산 도포 장치가 제공된다. 키토산 도포 장치는 캐리어 가스가 유입되는 가스 유입구 및 내부에서 발생된 저온 대기압 플라즈마를 분사하는 플라즈마 분사구를 갖는 중공의 실린더 형태의 유전체 튜브, 유전체 튜브에 설치되는 제 1 전극, 제 1 전극에 전원을 인가하는 전원부, 유전체 튜브의 가스 유입구로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부 및 유전체 튜브 내에서 발생되는 저온 대기압 플라즈마로 키토산을 공급하는 키토산 공급부를 포함한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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