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Mildes, pflegendes Antischuppenshampoo
专利权人:
Henkel AG & Co. KGaA
发明人:
Thomas Schröder,Dirk Hentrich
申请号:
DE102014225606
公开号:
DE102014225606A1
申请日:
2014.12.11
申请国别(地区):
DE
年份:
2015
代理人:
摘要:
Gegenstand der Erfindung ist ein kosmetisches Haarreinigungsmittel, das – bezogen auf sein Gewicht –a) 1,00 bis 20,00 Gew.-% mindestens eines anionischen Tensids gemäß der nachfolgenden Formel (I),in der– R1für einen linearen oder verzweigten, gesättigten oder ungesättigten Alkylrest mit 6 bis 30 Kohlenstoffatomen steht,– die Reste R2bis R5unabhängig voneinander für -H oder für einen C1-C4-Alkylrest stehen, und– M+für ein Ammonium-, ein Alkanolammonium oder ein Metallkation steht, und– 0,05 bis 3,00 Gew.-% mindestens eines Antischuppenwirkstoffs enthält,dadurch gekennzeichnet, dass das kosmetische Haarreinigungsmittel im Wesentlichen keine weiteren – von a) verschiedenen – anionischen Tenside enthält.Gegenstand der Erfindung ist weiterhin die kosmetische Verwendung eines kosmetischen Mittels, das mindestens einen Antischuppenwirkstoff und neben einem anionischen Isethionat-Tensid der allgemeinen Formel (I) im Wesentlichen keine weiteren anionischen Tenside enthält, zur Reinigung der Haare und/oder zur Beseitigung, Verminderung, Linderung und/oder Vorbeugung von Kopfschuppen.The object of the invention is a cosmetic hair purifying agents, which, based on the weight of –a) to 1,00 20,00 w -% of at least one anionic surfactant in accordance with the following formula (i), in the– R1 for a linear or branched, saturated or unsaturated alkyl radical having 6 to 30 carbon atoms,– the radicals r2 to r5 independently of one another represent - h or a c1-C.4-Alkyl radical, and– M+ for an ammonium -, a alkanolammonium or a metal cation, and– 0,05 to 3,00 w -% of at least one active, scales,characterized in that the cosmetic hair purifying agents essentially no further – of a) various – anionic surfactants.The present invention further provides for the cosmetic use of a cosmetic agent, the at least an antidandruff ingredient and, in addition to a anionic isethionate - surfactant of the general formula (i) substantially no further anionic surfactants, for the purification of the
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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