The present invention relates to a grating for X-ray phase contrast and/or dark-field imaging. It is described to form a photo-resist layer on a surface of a substrate. The photo-resist layer is illuminated with radiation using a mask representing a desired grating structure. The photo-resist layer is etched to remove parts of the photo-resist layer, to leave a plurality of trenches that are laterally spaced from one across the surface of the substrate. A plurality of material layers are formed on the surface of the substrate. Each layer is formed in a trench. A material layer comprises a plurality of materials, wherein the plurality of materials are formed one on top of the other in a direction perpendicular to the surface of the substrate. The plurality of materials comprises at least one material that has a k-edge absorption energy that is higher than the k-edge absorption energy of Gold and the plurality of materials comprises Gold.La présente invention concerne un réseau de diffraction pour imagerie à rayons X en contraste de phase et/ou sur fond noir. Linvention décrit la formation dune couche de résine photosensible sur une surface dun substrat. La couche de résine photosensible est éclairée par un rayonnement en utilisant un masque qui représente une structure de réseau souhaitée. La couche de résine photosensible est gravée pour éliminer des parties de la couche de résine photosensible, afin de laisser une pluralité de tranchées qui sont espacées latéralement les unes des autres à travers la surface du substrat. Une pluralité de couches de matériau sont formées sur la surface du substrat. Chaque couche est formée dans une tranchée. Une couche de matériau comprend une pluralité de matériaux, la pluralité de matériaux étant formés les uns au-dessus des autres dans une direction perpendiculaire à la surface du substrat. La pluralité de matériaux comprend au moins un matériau qui présente une énergie dabsorption de bord k qui est supérieure à lénergie dabsorpti
