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GEL NAIL POLISH COMPOSITION COMPRISING ACRYLATE CONTAINING ACETAL GROUP, PHOTOINITIATOR AND PHOTOACID GENERATOR AS ACTIVE INGREDIENT, AND USES THEREOF
专利权人:
충북대학교 산학협력단;주식회사 솔레온;CHUNGBUK NATIONAL UNIVERSITY INDUSTRY-ACADEMIC COOPERATION FOUNDATION;SOLEON CO., LTD.
发明人:
RYU SANG WOOG,류상욱,JANG SANG EUN,장상은,KIM HA MIN,김하민,YUN KI HOON,윤기훈
申请号:
KR1020180120457
公开号:
KR1021017730000B1
申请日:
2018.10.10
申请国别(地区):
KR
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention relates to a gel nail polish composition comprising an acrylate containing an acetal group, a photoinitiator, and a photoacid generator as an active ingredient, and uses thereof. The gel nail polish composition of the present invention not only can be cured within a short time, but also contains an acetal structure that can be decomposed after use, so that photocured products can be easily decomposed under acidic conditions. Therefore, the composition of the present invention can be easily used in the gel nail related industry because it is possible to easily replace nail care products to suit consumer′s preferences while minimizing damage to the nails and surrounding skin compared to the prior art.COPYRIGHT KIPO 2020본 발명은 아세탈기를 포함하는 아크릴레이트, 광개시제, 및 광산발생제를 유효성분으로 함유하는 젤 네일 폴리쉬 조성물 및 이의 용도에 관한 것으로, 본 발명의 젤 네일 폴리쉬 조성물은 짧은 시간 내에 경화가 가능할 뿐만 아니라, 사용 후 분해가 가능한 아세탈 구조를 포함하고 있어 광경화물이 산성 조건에서 쉽게 분해될 수 있는 특징이 있다. 따라서 본 발명의 조성물은 종래 기술에 비해 손톱 및 주변 피부의 손상을 최소화하면서 소비자의 기호에 맞게 용이하게 네일 케어 제품을 교체할 수 있으므로, 젤 네일 관련 산업에 매우 유용하게 이용될 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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