Bekannte Bestrahlungsvorrichtungen zur Bestrahlung von Pflanzen weisen ein eine Anbauebene E definierendes Trägerelement zur Kultivierung der Pflanzen, mehrere Strahlungsquellen zur Bestrahlung der Pflanzen mit sichtbarer und/oder ultravioletter Strahlung und mehrere Infrarotstrahler zur Bestrahlung der Pflanzen mit Infrarotstrahlung auf. Um hiervon ausgehend eine Bestrahlungsvorrichtung zur Bestrahlung von Pflanzen anzugeben, die neben einer Bestrahlung der Pflanzen mit ultravioletter und/oder sichtbarer Strahlung eine gleichmäßige Bestrahlung der Pflanzen mit Infrarotstrahlung gewährleistet, und die darüber hinaus bezogen auf die Anbaufläche eine geringe Anzahl von Infrarotstrahlern erfordert, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die Infrarotstrahler für eine Temperatur von 800 °C bis 1.800 °C ausgelegt sind und jeweils ein zylinderförmiges Strahlerrohr mit einer Strahlerrohr-Länge im Bereich von 50 mm bis 500 mm aufweisen, und dass sich die Strahlerrohre parallel zueinander in einer oberhalb der Anbauebene E gelegenen Strahlerzone Z erstrecken, wobei die Infrarotstrahler-Belegungsdichte bezogen auf die Fläche der Anbauebene E im Bereich zwischen 0,2 m–2und 1,0 m–2liegt, und sich Bestrahlungsbereiche benachbarter Infrarotstrahler auf der Anbauebene E derart überlappen, dass die mittlere Bestrahlungsstärke auf der Anbauebene E zwi schen 10 Watt/m2und 100 Watt/m2mit einer Schwankungsbreite von maximal 50% beträgt, und dass einer Oberseite des Strahlerrohrs ein einem Bauraum B zugewandter Reflektor zugeordnet ist.Known irradiation devices for irradiating plants have a support element defining a cultivation level E for cultivating the plants, several radiation sources for irradiating the plants with visible and / or ultraviolet radiation and several infrared radiators for irradiating the plants with infrared radiation. In order to provide an irradiation device for irradiating plants based on this, which, in addition to irradiating the plants wi
