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ハロゲン含有プラズマに露出された表面の浸食速度を減じる装置及び方法
- 专利权人:
- アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ
- 发明人:
- ジェニファー ワイ サン,レングアン デュアン,ジエ ユアン,リー スー,ケネス エス コリンズ
- 申请号：
- JP20160239304
- 公开号：
- JP2017095350(A)
- 申请日:
- 2016.12.09
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】半導体処理に用いるハロゲン含有プラズマによる侵食に耐性のあるセラミック物品の提供。【解決手段】ハロゲン含有プラズマによる浸食に耐性のある材料として、約０．１〜約６５ｍｏｌ％の濃度の酸化ジルコニウムと、約９９．９〜約３５ｍｏｌ％の濃度の酸化イットリウム、好ましくは約３０〜４０ｍｏｌ％の酸化ジルコニウムと７０〜６０ｍｏｌ％の酸化イットリウムを含む複合粉末とをベースとし、第一の方法は、上記複合粉末を成形、焼結することにより焼結体を得る方法であり、第二の方法は、金属やセラミックスからなる基板の表面に、上記複合粉末の組成物をコーティングする方法。【選択図】図１Ａ
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
