アプリケータ

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专利权人:

久光製薬株式会社

发明人:

不動寺 龍介,小倉 誠

申请号：

JP2015559947

公开号：

JPWO2015115420A1

申请日:

2015.01.27

申请国别(地区):

JP

年份:

2017

代理人:

摘要：

An applicator according to one embodiment includes a support surface for supporting an inclined microneedle, a support surface rotated in a direction toward the tip of the microneedle before and after the microneedle pierces the skin, and a movement range is restricted And a rotation mechanism.一実施形態に係るアプリケータは、傾斜したマイクロニードルを支持する支持面と、マイクロニードルが皮膚に刺さる前後に亘って該マイクロニードルの先端の方向に支持面を回転させ、かつ移動範囲が制限された回転機構とを備える。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/