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粒子线照射系统以及带电粒子束的修正方法
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 西内秀晶,藤高伸一郎
- 申请号：
- CN201210429321.4
- 公开号：
- CN103083828B
- 申请日:
- 2012.10.31
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种粒子线照射系统以及带电粒子束的修正方法，能够不降低照射剂量一致度地提高射束利用效率。该粒子线照射系统具备：将离子束（10）加速后射出的同步加速器（13）、照射从同步加速器（13）射出的离子束（10）的照射装置（30），从照射装置（30）多次进行一个单位的照射，其特征在于，具备：测量同步加速器（13）内的积蓄射束电荷量（Qmeas）的积蓄射束电荷量测量单元（15）；目标电流设定单元，其根据通过积蓄射束电荷量测量单元测量出的积蓄射束电荷量（Qmeas），设定从同步加速器（13）射出的目标射束电流值（Ifb）；出射射束电流修正控制单元，其根据由上述目标电流设定单元求出的出射射束电流的目标值（Ifb）控制射束电流。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
