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粒子束治疗装置
专利权人:
株式会社东芝
发明人:
石山洋,受川铁平,松井健太郎,泷口裕司
申请号:
CN201510686055.7
公开号:
CN105521567A
申请日:
2015.10.21
申请国别(地区):
CN
年份:
2016
代理人:
摘要:
本发明提供一种能够提高照射目标中心精度的粒子束治疗装置。粒子束治疗装置(20),具有旋转架台(13),所述旋转架台(13)使得用于向设置在内部的放射线治疗室(21)照射带电粒子束的照射口(4)进行环绕移位,该粒子束治疗装置(20)具有:架台体部(1),构成该旋转架台(13);搭载磁体(2),经由磁体支撑部(3)连接到该架台体部(1),将所述带电粒子束引导到照射口(4);位移计或者加速度计(9),设置在该搭载磁体(2)上,测量该搭载磁体的位移或加速度;以及控制机构(10),向缩小该位移计或者加速度计(9)计测到的至少一个自由度以上的位移或者加速度的方向,控制所述搭载磁体(2)的位置。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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