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粒子射线治疗装置
专利权人:
三菱电机株式会社
发明人:
本田泰三,池田昌广,蒲越虎,花川和之
申请号:
CN201180053865.9
公开号:
CN103200993B
申请日:
2011.03.10
申请国别(地区):
CN
年份:
2015
代理人:
摘要:
本发明的目的在于得到一种能抑制泄漏剂量的影响的粒子射线治疗装置。包括:照射头(21),该照射头(21)使从加速器(1)射出的粒子射线(B)向规定方向照射;照射控制部(42),该照射控制部(42)对照射头(21)的动作进行控制,以分别对设定在照射对象(TC)内的平面方向(ASS)内的多个束点(SP)依次照射规定剂量的粒子射线(B);以及控制部(4),该控制部(4)对来自加速器(1)的粒子射线(B)的射出进行开启/关闭控制;在从将射出从开启切换为关闭的时刻(TF)起的规定期间(PW)内,或者在粒子射线(B)被遮断之前的期间内,照射控制部(42)利用照射头(21)来使粒子射线(B)向照射对象(TC)内的规定范围(AP)内进行稀释扫描。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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