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Method for disappearance of chlorine dioxide gas and kit for disappearance of chlorine dioxide gas
专利权人:
株式会社アマテラ;AMATERA:KK
发明人:
藤田 博正,藤田 哲悠,藤田 征士,▲高▼富 廣志,FUJITA HIROMASA,FUJITA AKIHISA,FUJITA MASASHI,TAKATOMI HIROSHI
申请号:
JP2018147030
公开号:
JP2020019696A
申请日:
2018.08.03
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Problem to be solved: to provide a method for disappearance of chlorine dioxide gas and a kit for disappearance of chlorine dioxide gas by disappearing generated chlorine dioxide after the use thereof.Chlorine dioxide gas is produced by contacting a gas containing gas containing chlorine dioxide and chlorine dioxide to a chlorine containing gas A gas annihilation step S20 is provided.The kit for disappearance of chlorine dioxide gas is composed of an agent containing a chlorite, a B agent containing a gas generating agent, and a C agent containing a chlorine dioxide reducing agent, and by producing a chlorine dioxide gas by contacting the A and B agents and contacting the C agent with chlorine dioxide gas Chlorine dioxide gas is extinguished.Diagram【課題】発生させた二酸化塩素ガスを使用後に消滅させることにより、使用後の二酸化塩素ガスによる刺激臭を低減できる二酸化塩素ガスの発生消滅方法および二酸化塩素ガス発生消滅用キットを提供する。【解決手段】二酸化塩素ガスの発生消滅方法は、亜塩素酸塩を含むA剤とガス発生剤を含むB剤とを接触させることにより二酸化塩素ガスを発生させるガス発生工程S10と、二酸化塩素に二酸化塩素還元剤を含むC剤を接触させることにより二酸化塩素ガスを消滅させるガス消滅工程S20と、を備える。また、二酸化塩素ガス発生消滅用キットは、亜塩素酸塩を含むA剤と、ガス発生剤を含むB剤と、二酸化塩素還元剤を含むC剤と、で構成され、A剤とB剤とを接触させることにより二酸化塩素ガスを発生させ、二酸化塩素ガスにC剤を接触させることにより二酸化塩素ガスを消滅させる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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