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Cream and method for producing the same
专利权人:
株式会社新菱
发明人:
柴原 悠,豊永 健,西尾 大助,豊島 宏一,武田 徹
申请号:
JP2019546672
公开号:
JPWO2019069811A1
申请日:
2018.09.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
Provided are a cream having a high content of hydrogen gas and less adverse effects on the skin, and a method for producing the same. The cream of the present invention is a cream containing hydrogen gas in a bubble state in a composition containing a fatty acid salt having 10 or more carbon atoms, a fatty acid having 10 or more carbon atoms and a liquid medium, and the inclusion of hydrogen gas in the bubble state in the cream The rate is 0.1 to 100% by volume [v / w]. The method for producing a cream of the present invention comprises preparing a composition containing a fatty acid salt having 10 or more carbon atoms, a fatty acid having 10 or more carbon atoms and a liquid medium, including hydrogen gas in a bubble state in the composition, Including thickening the composition comprising the gas.水素ガスの含有率が多く、かつ肌への悪影響の少ないクリームおよびその製造方法を提供する。本発明のクリームは、炭素数10以上の脂肪酸塩、炭素数10以上の脂肪酸および液状媒体を含む組成物に気泡状態の水素ガスを包含するクリームであり、クリーム中の気泡状態の水素ガスの含有率が0.1~100体積%[v/w]である。本発明のクリームの製造方法は、炭素数10以上の脂肪酸塩、炭素数10以上の脂肪酸および液状媒体を含む組成物を調製し、組成物に気泡状態の水素ガスを包含させ、気泡状態の水素ガスを包含する組成物を増粘させることを含む。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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