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ベンゾトリアゾール化合物及びこれを用いた化粧用紫外線吸収剤と皮膚外用剤
专利权人:
SHIPRO KASEI KAISHA LTD
发明人:
TANAKA NAOKI,田中 直樹,TSUBOI SEIJI,坪井 誠二,MORITANI CHIE,守谷 智恵,SASAKI KENJI,佐々木 健二
申请号:
JP2013273858
公开号:
JP2014141487A
申请日:
2013.12.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel compound exhibiting, despite having a low melting point, compatibility with various cosmetic bases, absorbing rays over nearly entire regions of UV-A and UV-B, excellent in terms of light stability, exhibiting long-term decomposition resistance and degradation resistance due to both an ultraviolet absorption function and a matrix metal proteinase (MMP) inhibition activity function inherent in the compound, and usable as a hybrid material for doubly protecting skin from aging damages and effective components of skin external preparations useful as MMP inhibitors and having scarce side effects.SOLUTION: The provided 2-(2,4-dihydroxyphenyl)-2H-benzotriazole derivative is expressed by the following general formula 1.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】低融点であって各種化粧基材との相溶性に優れ、UV-A,UV-Bのほぼ全領域において吸収をもち、かつ光安定性に優れ、化合物自体が長期にわたって分解、劣化し難い紫外線吸収作用とMMP阻害活性作用を併せ持ち、皮膚のダメージによる老化を2重に保護するハイブリッドな材料並びに、マトリックス金属蛋白質分解酵素(MMP)阻害薬として有用な副作用の少ない皮膚外用剤の有効成分として使用できる新規化合物の提供。【解決手段】下記一般式1で示される2-(2,4-ジヒドロキシフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール誘導体。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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