A low irritancy cleansing composition comprises: (a) an anionic surfactant compound of formula (I): wherein R1 represents a C4-36 substituted or unsubstituted hydrocarbyl group each of R2, R3, R4 and R5 independently represents a hydrogen atom or a C1-4 alkyl group and wherein at least one of R2, R3, R4 and R5 is not hydrogen and M+ represents a cation and (b) an amphoteric surfactant wherein the molar ratio of component (a) to component (b) is from 0.25:1 to 4:1 and wherein the composition comprises less than 3 wt% polyethoxylated non-ionic species.Una composición de limpieza con baja irritabilidad que comprende: (a) un compuesto de agente tensoactivo aniónico de fórmula (I): (ver fórmula (I)) en donde R1 representa un grupo hidrocarbilo sustituido o no sustituido de C4-36 cada uno de R2, R3, R4 y R5 representa independientemente un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo de C1-4y en donde por lo menos uno de R2, R3, R4 y R5 no es hidrógeno y M+ representa un catión y (b) un agente tensoactivo anfotérico en donde la relación molar del componente (a) al componente (b) es de 0.25:1 a 4:1 y en donde la composición comprende menos del 3% en peso de especies no jónicas polietoxiladas.
