There is provided a method for manufacturing an x-ray absorbing grating for a phase contrast x-ray system adapted for operation in a specific intended x-ray spectrum, wherein at least a substantial part of the x-ray spectrum is between 30 keV and 90 keV. The method comprises providing (S1 ) a grating structure, selecting (S2) an x-ray absorbing material that includes one or more elements having their characteristic absorption K-edges below, or in the lower end, of the intended x-ray spectrum, and depositing (S3) the x-ray absorbing material in the grating structure.La présente invention concerne un procédé de fabrication dun réseau dabsorption de rayons X pour un système à rayons X à contraste de phase adapté pour le fonctionnement dans un spectre de rayons X souhaité spécifique, au moins une partie substantielle du spectre de rayons X étant comprise entre 30 keV et 90 keV. Le procédé comprend la fourniture de (S1) une structure de réseau, la sélection de (S2) un matériau absorbant les rayons X qui comprend un ou plusieurs éléments ayant leurs bords K dabsorption caractéristiques au-dessous, ou dans lextrémité inférieure, du spectre de rayons X prévu, et le dépôt (S3) du matériau absorbant les rayons X dans la structure de réseau.