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PARTICLE BEAM TREATMENT SYSTEM
专利权人:
HITACHI LTD;株式会社日立製作所
发明人:
EBINA FUTARO,▲えび▼名 風太郎,AOKI TAKAMICHI,青木 孝道
申请号:
JP2017095157
公开号:
JP2018187308A
申请日:
2017.05.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a particle beam treatment system which can reduce an installation area while restricting fluctuation in irradiation beam position.SOLUTION: The present invention includes: a synchrotron 10 for generating an electric charge particle beam; an irradiation field forming device 40 for forming an irradiation field by applying the electric charge particle beam obtained from the synchrotron 10 onto an irradiation target 51; a rotary gantry 30 provided with the irradiation field forming device 40 and rotatable around the irradiation target 51; and dispersion measurement devices 42a, 42b which measure dispersion of the electric charge particle beam at a position of the irradiation target 51 at a plurality of rotational angles of the rotary gantry 30. A track center of the electric charge particle beam obtained from the synchrotron 10 and a rotational axis 33 of the rotary gantry 30 are on the substantially same line.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】 設置面積を低減し、なおかつ照射ビーム位置の変動を抑制することのできる粒子線治療システムを提供する。【解決手段】荷電粒子ビームを生成するシンクロトロン10と、シンクロトロン10から取り出された荷電粒子ビームを照射対象51へ照射して照射野を形成する照射野形成装置40と、照射野形成装置40が設けられ、照射対象51の周囲を回転可能な回転ガントリー30と、照射対象51の位置における荷電粒子ビームのディスパージョンを回転ガントリー30の複数の回転角度において測定するディスパージョン測定装置42a、42bと、を備え、シンクロトロン10から取り出された荷電粒子ビームの軌道中心と回転ガントリー30の回転軸33とが略同一直線上にあることを特徴とする【選択図】 図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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