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粒子射线照射系统及粒子射线照射方法
- 专利权人:
- 三菱电机株式会社
- 发明人:
- 蒲越虎
- 申请号：
- CN201080050492.5
- 公开号：
- CN102612719B
- 申请日:
- 2010.10.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的目的在于提供一种在粒子射线治疗装置中、即使在照射野尺寸较大的情况下也能对粒子射线进行高速扫描的粒子射线照射系统。包括：第一偏转装置(21)，该第一偏转装置(21)具有能使粒子射线在一个方向上移动到目标的最大宽度的最大偏转量；以及第二偏转装置(22)，该第二偏转装置(22)使粒子射线(1)向所述一个方向进行偏转时的最大偏转量比第一偏转装置(21)的最大偏转量要小，在粒子射线移动时，进行增加第二偏转装置(22)的偏转量增加来使粒子射线移动的控制，在粒子射线停留时，进行以下偏转置换控制：即，使第二偏转装置(22)的偏转量减少并使第一偏转装置(21)的偏转量变化，以将第二偏转装置(22)的偏转置换为第一偏转装置(21)的偏转，使得目标处的粒子射线的位置停留。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
