粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置
- 专利权人:
- 三菱电机株式会社
- 发明人:
- 岩田高明
- 申请号：
- CN201410648274.1
- 公开号：
- CN104324449B
- 申请日:
- 2009.08.27
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的目的在于获得可消除扫描电磁铁的磁滞影响且可实现高精度射束照射的粒子射线照射装置。包括：磁场传感器(20)，该磁场传感器(20)对扫描电磁铁(3)的磁场进行测定；以及照射控制装置(5)，该照射控制装置(5)对通过扫描电磁铁(3)的带电粒子束(1b)的射出量进行控制。照射控制装置(5)对于多个矩形区域(Si,j)的每一个求出通过多个矩形区域(Si,j)的带电粒子束(1b)的剂量的累计值，并基于每个矩形区域(Si,j)的累计值对带电粒子束(1b)的射出量进行控制。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
