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粒子射线治疗装置及粒子射线治疗装置的照射剂量设定方法
- 专利权人:
- 三菱电机株式会社
- 发明人:
- 池田昌广,原田久,高桥理
- 申请号：
- CN201180066108.5
- 公开号：
- CN103338819A
- 申请日:
- 2011.03.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的目的在于获得一种能进行恰当的剂量校正的、利用了扫描照射法的粒子射线治疗装置。该粒子射线治疗装置包括：照射嘴，该照射嘴使尖向束在与前进方向垂直的方向、即横向上移动；剂量监视器，该剂量监视器对从照射嘴射出的粒子射线的剂量进行测定；治疗计划部，该治疗计划部设定要照射到照射目标的照射剂量设定值；以及治疗控制部，该治疗控制部包括照射剂量控制器，该照射剂量控制器基于剂量监视器的测定值和由治疗计划部所设定的照射剂量设定值来控制对照射目标进行照射的照射剂量；治疗计划部将较布拉格峰位置更靠尖向束入射一侧的规定位置、即基准深度的吸收剂量作为基准，来对预先准备的深度方向上的吸收剂量分布数据即PDD进行保存，并将基准深度的吸收剂量作为基准来计算出照射剂量设定值。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
