您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

AGENT THÉRAPEUTIQUE POUR UNE LISSENCÉPHALIE
专利权人:
OSAKA CITY UNIVERSITY;公立大学法人大阪市立大学;広常 真治;HIROTSUNE, Shinji
发明人:
HIROTSUNE, Shinji,広常真治
申请号:
JPJP2011/078000
公开号:
WO2012/074120A1
申请日:
2011.11.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
The present invention addresses the problem of providing a drug and method for the treatment of lissencephaly patients. The present invention provides a lissencephaly therapeutic or preventive agent containing a compound represented by general formula (I) (where R1 is a lower alkyl group substituted by a lower alkoxy group, a lower alkyl group substituted by a heterocyclic group, a heterocyclic group, or a group represented by formula (IIa) (where R4 is a lower alkyl group, R5 is a lower alkylene group, and m is an integer between 1 and 6); R2 is a lower alkyl group optionally substituted by a phenyl group; and R3 is a lower alkyl group (optionally substituted by a halogen, lower alkoxy group, or phenyl group), a condensed polycyclic hydrocarbon group, or a hydrogen atom).La présente invention s'attaque au problème consistant à fournir un médicament et un procédé pour le traitement de patients atteints pour une lissencéphalie. La présente invention concerne un agent thérapeutique ou préventif de lissencéphalie contenant un composé représenté par la formule générale (I) (dans laquelle R1 représente un groupe alkyle inférieur substitué par un groupe alcoxy inférieur, un groupe alkyle inférieur substitué par un groupe hétérocyclique, un groupe hétérocyclique ou un groupe représenté par la formule (IIa) (dans laquelle R4 représente un groupe alkyle inférieur, R5 représente un groupe alkylène inférieur et m est un entier entre 1 et 6); R2 représente un groupe alkyle inférieur facultativement substitué par un groupe phényle; et R3 représente un groupe alkyle inférieur (facultativement substitué par un halogène, un groupe alcoxy inférieur ou un groupe phényle), un groupe hydrocarboné polycyclique condensé ou un atome d'hydrogène).本発明は、滑脳症患者を治療する薬剤及び方法を提供することを課題とする。本発明は、一般式(I)〔式中、R1は、低級アルコキシ基で置換された低級アルキル基、複素環基で置換された低級アルキル 基、複素環基、又は式(IIa)(式中、R4は低級アルキル基、R5は低級アルキレン基、mは1~6の整数を示す。)で示される基を示す。R2はフェニル基で置換されていてもよい低級アルキル基を示す。R3は低級アルキル基(ハロゲン、低級アルコキシ基又はフェニル基で置換されていてもよい)、縮合多環式炭化水素基、又は水素
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充