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Plasma-Behandlungsgerät
专利权人:
XIAOBO; CHEN
发明人:
Antrag auf Nichtnennung
申请号:
DE102012103362
公开号:
DE102012103362A1
申请日:
2012.04.18
申请国别(地区):
DE
年份:
2013
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Plasma-Behandlungsgerät (1), insbesondere zur Behandung des menschlichen Körpers. Um ein vorteilhaftes Plasma-Behandlungsgerät, insbesondere zur Behandlung des menschlichen Körpers, anzugeben, wird vorgeschlagen, dass das Gerät stiftartig ausgebildet ist, wobei eine, gegebenenfalls erste Elektrode (2) in einem Stiftteil (5) vorgesehen ist und das Stiftteil (5) im Bereich der Elektrode (2) geerdet ist.The apparatus (1) has an electrode (2) provided in a pin part. The pin part is grounded in a region of the electrode. Another electrode (3) is provided on a to-be treated surface independent of the pin part. The latter electrode is firmly connected with the pin part. The latter electrode is formed in a loop-shape in a presenting region and surrounds the pin part in a sleeve-shape. The latter electrode is projected wider than the former electrode and comprises an inner through hole. The pin part is made of soft plastic i.e. silicone plastic, in an end region.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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