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ANTIMICROBIAL COMPOSITION
专利权人:
コンバテック・テクノロジーズ・インコーポレイテッド;CONVATEC TECHNOLOGIES INC
发明人:
PERCIVAL STEVEN L,スティーブン・エル・パーシバル,BOWLER PHILLIP G,フィリップ・ジー・ボウラー,PARSONS DAVID,デイビッド・パーソンズ
申请号:
JP2013098416
公开号:
JP2013209385A
申请日:
2013.05.08
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a bactericidal composition suitable for use in a skin and a wound other than an antibiotic.SOLUTION: A bactericidal composition includes iodine, an antimicrobial agent source comprising ion silver or oxidizing agents (e.g., sodium hypochlorite or chlorine dioxide), and a drug comprising EDTA (ethylenediamine tetraacetic acid) and destroying a biofilm, can be adapted to a skin, a wound, a cut, a graze or a burn for preventing or treating infection, and particularly can avoid inflammation of the wound and the skin and delay of a wound cure, and simultaneously exhibit effective antimicrobial activity.【課題】抗生物質以外の皮膚および創傷への使用に適する殺菌組成物を提供すること。【解決手段】ヨウ素、イオン銀または酸化剤(例えば次亜塩素酸ナトリウムまたは二酸化塩素)からなる抗菌剤源、およびEDTA(エチレンジアミン四酢酸)からなるバイオフィルムを破壊する薬剤を含む、感染の予防または治療のために、皮膚、創傷、切り傷、擦過傷または熱傷に適応することができ、特に、創傷および皮膚の炎症、ならびに創傷治癒の遅延を回避すると同時に効果的な抗菌活性を呈することができる殺菌組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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