您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

フェナンスロインドリジジン化合物及びこれを有効成分とするNFκB阻害剤
专利权人:
株式会社ヤクルト本社
发明人:
池田 隆史,沢田 誠吾,八重樫 隆,松崎 健,橋本 秀介,山崎 竜太
申请号:
JP2010534720
公开号:
JPWO2010047127A1
申请日:
2009.10.23
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
I will provide a novel compound having an NFκB superior inhibitory action. The following formula (1) [Wherein, R 1 represents a halogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkyl group R 2 represents a lower alkyl group or a hydroxyl group R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group R 4 represents a lower alkyl group or a hydrogen atom R 5 is an isopropylidenedioxy group formed together with R 6 or a methylenedioxy group to form a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, with R 6 R 6 represents a isopropylidenedioxy group to form with 5 R or a methylenedioxy group to form a hydrogen atom, a lower alkyl group, with R 5 R 7 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group However (, R 7 and 3, R 4 R 1, R is a hydrogen atom represents a lower alkyl carbonyl group hydrogen atom, a hydroxyl group, or an amino group, R 8 and R 2 is a hydroxyl group, R 8 is R 5 and. except for the case, such as a methoxy group, R 6). ] The compound or a salt thereof represented by the優れたNFκB阻害作用を有する新規化合物を提供する。下記式(1)[式中、R1は水素原子、低級アルキル基、低級アルキルオキシ基又はハロゲン原子を示し;R2は水酸基又は低級アルキルオキシ基を示し;R3は水素原子、低級アルキル基又はハロゲン原子を示し;R4は水素原子又は低級アルキルオキシ基を示し;R5は水素原子、低級アルキルオキシ基、ハロゲン原子、水酸基、R6とともに形成するメチレンジオキシ基又はR6とともに形成するイソプロピリデンジオキシ基を示し;R6は水素原子、低級アルキルオキシ基、R5とともに形成するメチレンジオキシ基又はR5とともに形成するイソプロピリデンジオキシ基を示し;R7は水素原子又は低級アルキル基を示し;R8は水素原子、水酸基、アミノ基又は低級アルキルカルボニルオキシ基を示す(但し、R1、R3、R4及びR7が水素原子であり、R2及びR8が水酸基であり、R5及びR6がメトキシ基である場合等を除く。)。]で表される化合物又はその塩
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充