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COMPOUNDS FOR THE CONTROL OF BIOFILMS IN INDUSTRIAL EQUIPMENT
专利权人:
NITTO DENKO CORPORATION
发明人:
MESNIER, Xavier,SCHÜWER, Nicolas,DE VISSCHER, Geofrey,DE TITTA, Alexandre
申请号:
IBIB2018/052184
公开号:
WO2018/178922A1
申请日:
2018.03.29
申请国别(地区):
WO
年份:
2018
代理人:
摘要:
The present invention relates to a method for inhibiting or reducing the growth of a microbial biofilm on a surface, characterised in that the method comprises a step of contacting the biofilm-forming microorganism with a compound according to Formula (1), or a salt or solvate thereof (Formula 1) wherein "ORG" is an organic moiety having from 2 to 20 carbon atoms "v" is 1, 2, 3, 4, or 5 "L" provides a covalent link to "ORG" and is selected from O, NH, or is a direct bond from the carbonyl group to "ORG" "n" is 0 or 1 and R1, R2 and R3 are independently selected from H, OH and OCH3 provided that at least one of R1, R2 and R3 is OH.La présente invention concerne un procédé dinhibition ou de réduction de la croissance dun biofilm microbien sur une surface, caractérisé en ce que le procédé comprend une étape de mise en contact du micro-organisme formant un biofilm avec un composé selon la formule (1), ou un sel ou solvate de celui-ci (formule 1) dans laquelle "ORG" représente une fraction organique contenant de 2 à 20 atomes de carbone "v" vaut 1, 2, 3, 4 ou 5 "L" forme une liaison covalence avec "ORG" et est choisi parmi O, NH ou représente une liaison directe du groupe carbonyle à " ORG " "n" vaut 0 ou 1 et R1, R2 et R3 sont indépendamment choisis parmi H, OH et OCH3 à condition quau moins lun parmi R1, R2 et R3 représente OH.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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