抗辐射防龋消炎口腔制剂
- 专利权人:
- 中国人民解放军96617部队
- 发明人:
- 李广文,李卉,张陈兵,曹思樟,王军
- 申请号：
- CN201510717026.2
- 公开号：
- CN105327337A
- 申请日:
- 2015.10.30
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明属于口腔药物制剂技术领域，特别涉及一种多功能抗辐射防龋消炎的口腔药物制剂。其技术方案是：一种抗辐射防龋消炎口腔制剂，它包括按质量分数计，0.5％～5％的奥替普拉、0.3％～2％的重组人角质细胞生长因子、0.02％～0.2％的度米酚、0.02％～0.2％的百里酚，0.02％～0.5％的替硝唑；余量为助药物、清新剂、甜味剂、增塑剂、崩解剂、清凉剂、稳定剂等；可制成漱口水、浓缩喷雾液，速崩洗消片三种不同剂型。本发明针对电离辐射性口腔疾病的致病因素研发，满足具有携带方便、平时预防保障和战时应急救治等多方面需求。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
