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PIT Method for Cosmetic using Particle Inversion Temperature System
专利权人:
LTD.;루안코리아 주식회사;RUAN KOREA. CO.;RUAN KOREA. CO., LTD.
发明人:
CHOI, BYUNG JIN,최병진
申请号:
KR1020170000369
公开号:
KR1020180079777A
申请日:
2017.01.02
申请国别(地区):
KR
年份:
2018
代理人:
摘要:
The present invention relates to a method for manufacturing cosmetic using a particle inversion temperature (PIT) system. More specifically, the present invention relates to the method manufacturing a cosmetic composition to have a fine size (50 to 100 nm) smaller in nano size than a gap of skin cells and improving skin absorption rate and affinity of active ingredients of the composition, thereby maximizing effects of moisture preservation, elasticity and wrinkle improvement, stability, affinity, etc.본 발명은 입자 온도변환(PIT) 시스템을 이용한 화장품 제조방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 화장품 조성물을 피부세포의 간극보다 작은 나노사이즈의 미세한 크기(50 내지 100nm)를 갖도록 제조하여, 조성물의 유효성분들이 갖는 피부 흡수율 및 친화성을 향상시켜 보습, 탄력 및 주름 개선, 안정성, 친화성 등의 효능효과를 극대화하기 위한 입자 온도변환(PIT) 시스템을 이용한 화장품 제조방법에 관한 것이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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