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ADVANCED WATER TREATMENT APPARATUS USING PLASMA
专利权人:
이동훈; LTD.;JARWON ELECTRONICS CO., LTD.;JARWON ELECTRONICS CO.;자원전자 주식회사;LEE, DONG HOON
发明人:
LEE, MIN KI,이민기,LEE, DONG HOON,이동훈
申请号:
KR1020110030074
公开号:
KR1020120111544A
申请日:
2011.04.01
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要:
PURPOSE: A plasma-based advanced water treatment apparatus is provided to reduce costs required for manufacturing processes by sterilizing various bacteria in polluted soil. CONSTITUTION: A plasma-based advanced water treatment apparatus includes a dual pipe(10), a stirring pump(30), and a plasma generating unit(20). The dual pipe is composed of an inner pipe(11) and an outer pipe(13). A first penetrating path(11A) is formed in the inner pipe. A gas inlet(30a), a polluted water inlet(30b), and a polluted water outlet(30c) in connection with the dual pipe are arranged at the stirring pump. The stirring pump stirs polluted water and gas and compulsorily introduces the stirred product into the first penetrating bath. The plasma generating unit includes electrodes(23, 25) and a power part(21). The electrodes are respectively arranged in the inner pipe and the outer pipe. The power part is connected to the electrodes. [Reference numerals] (AA) Final treated water; (BB) Polluted water본 발명은 플라즈마 고도수처리 장치에 관한 것으로서, 내부관(11)과 외부관(13)으로 구성되어 있고 내부관(11)에는 제1 소통로(11A)가 형성되어 있는 이중관체(10); 기체가 유입되는 기체유입구(30a)와 오염수가 유입되는 오염수유입구(30b)와 상기 이중관체(10)와 연결되는 오염수배출구(30c)가 구비되고 있고, 상기 오염수유입구(30b)를 통해서 유입된 오염수와 상기 기체유입구(30a)를 통해서 유입된 기체를 교반하여 상기 오염수배출구(30c)를 통해서 상기 이중관체(10)의 제1 소통로(11A)로 강제투입하는 교반펌프(30); 이중관체(10)의 내부관(11)과 외부관(13)에 각각 배열된 전극(23, 25)과, 상기 전극(23, 25)과 연결된 전원부(21)를 포함하는 플라즈마 발생수단(20)을 포함하여 구성되고, 이에 의하면 전기충격으로 인한 살균력을 높일 수 있고 수산기와 같은 라디칼을 잘 발생시킬 수 있는 이점이 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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