近红外MEMS闪耀光栅的设计与制作

• 全文链接
• 请求原文

作   者：

聂秋玉; 

作者机构：

重庆大学微系统研究中心;  西南大学电子信息工程学院; 

关键词：

湿法各向异性刻蚀;  闪耀光栅;  微机电系统;  近红外; 

期刊名称：

西南大学学报(自然科学版)

基金项目：

基于MOEMS集成扫描光栅微镜的微型近红外光谱仪

i s s n：

1673-9868

年卷期：

2017 年 06 期

页   码：

172-178

摘   要：

利用硅的各向异性湿法腐蚀性质,在偏晶向(111)硅基底材料上,设计并制作了闪耀角为8°、周期为4μm的近红外闪耀光栅.设计时考虑了光栅顶部平台对光栅衍射效率的影响,修正了光栅的闪耀角.制作时利用一次性氧化削尖的方法,减少光栅顶部平台的宽度,以提高光栅的衍射效率.利用扫描电子显微镜(SEM)进行光栅形貌测试,结果表明:制作的光栅具有平滑的光学表面和良好的光栅槽形.对光栅进行衍射效率测量,当入射波长为1 392nm时,衍射效率能达到70%以上,表明光栅具有很高的衍射效率,能满足微型近红外光谱仪的使用要求.