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人工水晶の育成方法
专利权人:
株式会社村田製作所
发明人:
西本 正俊,白井 雄,山口 清雄,設楽 卓巳
申请号:
JP20150534054
公开号:
JP6083474(B2)
申请日:
2014.06.26
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
An artificial crystal growth method that includes applying a pressure that causes at least two substantially rectangular-parallelepiped-shaped crystal substrates to abut each other in an X-axis direction with crystallographic axis directions of the crystal substrates aligned with each other, and causing the at least two crystal substrates to grow an artificial crystal in a state where the pressure is being applied.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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