ANDERSON, Trevor Bruce,RISKEN, Steven James,FRISKEN, Grant Andrew,SEGREF, Armin Georg
申请号：
AUAU2014/000638
公开号：
WO2014/201504A1
申请日:
2014.06.20
申请国别(地区):
AU
年份:
2014
代理人:
摘要：
Interferometry-based methods and apparatus are presented for analysing one or more wavefronts from a sample, in which the sample wavefronts are interfered with two or more reference wavefronts to produce two or more interferograms in a sufficiently short time period for the interferograms to be captured in a single exposure of an image capture device such as a CCD array. Each interferogram has a unique carrier frequency dependent on the angle between a respective pair of sample and reference wavefronts. In certain embodiments multiple sample and/or reference wavefronts are generated using scanning mirrors, while in other embodiments utilising multi-wavelength beams multiple sample and/or reference wavefronts are generated with wavelength dispersive elements. The methods and apparatus are suitable for measuring aberrations at one or more positions on the retina of an eye.L'invention concerne des procédés et un appareil reposant sur l'interférométrie permettant d'analyser un ou plusieurs fronts d'onde à partir d'un échantillon, les fronts d'onde de l'échantillon interférant avec deux ou plus de deux fronts d'onde de référence pour produire deux ou plus de deux interférogrammes dans une période suffisamment courte pour la capture des interférogrammes dans une exposition unique d'un dispositif de capture d'image tel qu'un réseau CCD. Chaque interférogramme comprend une fréquence porteuse unique en fonction de l'angle entre une paire respective de fronts d'onde d'échantillon et de référence. Dans certains modes de réalisation, de multiples fronts d'onde d'échantillon et/ou de référence sont générés au moyen de miroirs de balayage alors que dans d'autres modes de réalisation utilisant des faisceaux à longueurs d'ondes multiples, de multiples fronts d'onde d'échantillon et/ou de référence sont générés au moyen d'éléments dispersifs en longueur d'onde. Les procédés et l'appareil sont adaptés à la mesure d'aberrations au niveau d'une ou de plusieurs positions sur la rétine d
