An apparatus includes multiple first reservoirs and multiple second reservoirs joined with a substrate. Selected ones of the multiple first reservoirs include a reducing agent, and first reservoir surfaces of selected ones of the multiple first reservoirs are proximate to a first substrate surface. Selected ones of the multiple second reservoirs include an oxidizing agent, and second reservoir surfaces of selected ones of the multiple second reservoirs are proximate to the first substrate surface.La présente invention concerne un appareil qui comprend des premiers réservoirs multiples et des deuxièmes réservoirs multiples assemblés à un substrat. Certains choisis parmi les premiers réservoirs multiples comprennent un agent réducteur, et les surfaces de premier réservoir de ceux choisis parmi les premiers réservoirs multiples sont à proximité d'une première surface de substrat. Ceux choisis parmi les deuxièmes réservoirs multiples comprennent un agent oxydant, et les surfaces de deuxième réservoir de ceux choisis parmi les deuxièmes réservoirs multiples sont à proximité de la première surface de substrat.
