您的位置：
首页
>
农业专利
>
详情页
生土地坑窑窑顶植被种植基层结构及其施工工艺
- 专利权人:
- 郑州大学
- 发明人:
- 童丽萍,赵龙,赵红垒,赵希,张一多,谷鑫蕾,刘俊利,王亚博,唐磊
- 申请号：
- CN201510720487.5
- 公开号：
- CN105230308B
- 申请日:
- 2015.10.30
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 杨妙琴
- 摘要：
- 本发明涉及一种生土地坑窑窑顶植被种植基层结构及其施工工艺，包括拦马墙、种植基层及窑顶实土层，所述的拦马墙设置在窑顶实土层的崖面上，种植基层设置在窑顶实土层之上，所述的种植基层包括自下而上依次设置的找坡层、防水层、防水兼保护层、滤水层及土壤层，所述的防水层及防水兼保护层均包括水平部及竖直部，水平部位于找坡层与滤水层之间，竖直部位于拦马墙与种植基层之间。本发明是在生土地坑窑窑洞顶部的土层内增加防水层，能够有效的阻止水分下渗，防止渗水给窑洞造成破坏，同时防水层上部的土层可保持土壤的水分，从而使生土地坑窑窑洞顶部土层适于植被种植，有效提高土地利用率，降低生土地坑窑的占地面积。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
