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生土地坑窑窑顶植被种植基层结构及其施工工艺
- 专利权人:
- 郑州大学
- 发明人:
- 童丽萍,赵龙,谷鑫蕾,赵红垒,刘俊利,王亚博,唐磊
- 申请号:
- CN201510720487.5
- 公开号:
- CN105230308A
- 申请日:
- 2015.10.30
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 杨妙琴
- 摘要:
- 本发明涉及一种生土地坑窑窑顶植被种植基层结构及其施工工艺,包括拦马墙、种植基层及窑顶实土层,所述的拦马墙设置在窑顶实土层的崖面上,种植基层设置在窑顶实土层之上,所述的种植基层包括自下而上依次设置的找坡层、防水层、防水兼保护层、滤水层及土壤层,所述的防水层及防水兼保护层均包括水平部及竖直部,水平部位于找坡层与滤水层之间,竖直部位于拦马墙与种植基层之间。本发明是在生土地坑窑窑洞顶部的土层内增加防水层,能够有效的阻止水分下渗,防止渗水给窑洞造成破坏,同时防水层上部的土层可保持土壤的水分,从而使生土地坑窑窑洞顶部土层适于植被种植,有效提高土地利用率,降低生土地坑窑的占地面积。
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址:
- http://www.ckcest.cn/home/