JIMÉNEZ MORALES, Antonia,JIMÉNEZ MORALES, Antonia,GARCÍA CASAS, Amaya,GARCÍA CASAS, Amaya,ESTEBAN MORENO, Jaime,ESTEBAN MORENO, Jaime,AGUILERA CORREA, John Jairo,AGUILERA CORREA, John Jairo
申请号：
ESES2018/070314
公开号：
WO2018/193145A1
申请日:
2018.04.19
申请国别(地区):
WO
年份:
2018
代理人:
摘要：
A method for obtaining a sol-gel coating on a substrate from 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (MAPTMS) and tetramethoxysilane (TMOS) and a phosphorous-based compound selected from among tris (trimethylsilyl) phosphite and dimethyl trimethylsilyl phosphite. Water or a dissolution of an antimicrobial in water is added one drop at a time to the dissolution of the aforementioned components in a C1-C3 alcohol and it is left to react for 4-48 hours at a temperature between 15-35°C and relative humidity between 25-55% to obtain a coating composition. The obtained composition is deposited on a substrate and dried. The invention further relates to the obtained composition and the application thereof to substrates such as implants or implantable devices of biomedical use, as weli as to the thus coated substrates.Procedimiento para la obtención de un recubrimiento sol-gel sobre un sustrato a partir de 3-metacriloxipropiltrimetoxisilano (MAPTMS) y tetrametoxisilano (TMOS) y un compuesto en base fósforo seleccionado de entre tris (trimetilsilil)fosfito y dimetiltrimetilsililfosfito. Sobre la disolución de los componentes anteriores en un alcohol C1-C 3 se añade agua o una disolución de un antimicrobiano en agua gota a gota y se deja reaccionar durante 4-48 horas a una temperatura entre 15-35 °C y 25-55% de humedad relativa para obtener una composición de recubrimiento. La composición obtenida se deposita sobre un sustrato y se seca. La invención también se refiere a la composición obtenida y su aplicación a sustratos como implantes o dispositivos implantables de uso biomédico, así como a los sustratos así recubiertos.Le processus dobtention dun revêtement sol-gel sur un substrat à partir de 3-méthacryloxypropyltriméthoxysilane (MAPTMS) et de tétraméthoxysilane (TMOS) et un composé à base de phosphore sélectionné parmi le tris(triméthylsilyl)phosphite et le diméthyl triméthylsilyl phosphite. On ajoute à la dissolution des composants antérieurs dans un alcool C1-C 3 de leau
