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ジシロキサンを配位子とする金属錯体および担持金属錯体、その製造方法、並びに、それを用いて調製した担持金属触媒
- 专利权人:
- 国立研究開発法人産業技術総合研究所
- 发明人:
- 崔 準哲,深谷 訓久,安田 弘之
- 申请号：
- JP20150505558
- 公开号：
- JPWO2014142252(A1)
- 申请日:
- 2014.03.13
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 下記一般式（１）で表される金属錯体。（式中Ｍはパラジウムまたは白金、Ｌは一酸化炭素、オレフィン化合物、アミン化合物、ホスフィン化合物、Ｎ−複素環式カルベン化合物、ニトリル化合物、イソシアニド化合物から選ばれる配位子、ｎは配位子の個数を表す０から２の整数、Ｒ１〜Ｒ４は有機基を表す。）上記金属錯体は、その骨格構造を保持したまま無機酸化物へ固定化され、担持金属錯体とすることができ、これにより、当該担持金属錯体は、もとの金属錯体が有するのと同等の触媒活性を維持することができる。また、このようにして得られた担持金属錯体を焼成することにより、従来の担持金属触媒よりも触媒活性が大幅に向上した担持金属触媒を得ることができる。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
