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配位子、その配位子を含む金属錯体、及びその金属錯体を用いた反応
- 专利权人:
- 国立大学法人名古屋大学
- 发明人:
- 斎藤 進,野依 良治,三浦 隆志,鳴戸 真之,飯田 和希,高田 雄貴,戸田 勝章,二村 聡太,アグラワル サントシュ,リー スンゴック
- 申请号：
- JP20150504341
- 公开号：
- JPWO2014136795(A1)
- 申请日:
- 2014.03.04
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 一般式（２）：（式中、Ｒ１〜Ｒ８は同一又は異なって、水素原子、置換若しくは非置換アルキル基等であり、或いは、Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ５、及びＲ５とＲ６はそれぞれ、互いに結合して２価の炭化水素基を形成していてもよく、Ｒ９は同一又は異なって、アルキル基又はシクロアルキル基であり、Ｍはルテニウム（Ｒｕ）等であり、Ｘは配位子であり、ｎは０、１又は２である。）で表される金属錯体を使用することにより、より効率的に水素移動反応を促進することができる。具体的には、安定なカルボニル基等を有する多様性のある基質に対し、穏和な条件で収率良く水素添加反応を進行させることができる。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
