高分子膜形成用組成物及びその製造方法、高分子膜、分離膜モジュール、並びに、イオン交換装置
- 专利权人:
- 富士フイルム株式会社
- 发明人:
- 井上 和臣,猪股 壮太郎
- 申请号：
- JP20160543868
- 公开号：
- JPWO2016027595(A1)
- 申请日:
- 2015.07.14
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 高分子膜形成用組成物は、成分Ａとして、波長３６５ｎｍの光に対する吸光係数が３×１０２ｍＬ・ｇ−１・ｃｍ−１以上である重合開始剤、成分Ｂとして、２５℃で液体の重合開始剤、及び、成分Ｃとして、式ＣＬで表される重合性化合物を含有し、成分Ａと成分Ｂの質量比が１５：８５〜８５：１５である。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
