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高分子機能性膜形成用組成物、高分子機能性膜及びその製造方法、分離膜モジュール、並びに、イオン交換装置
专利权人:
富士フイルム株式会社
发明人:
井上 和臣
申请号:
JP20160547783
公开号:
JPWO2016039059(A1)
申请日:
2015.08.10
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
高分子機能性膜形成用組成物は、成分Aとして、酸解離定数pKaがaであるアニオン性官能基を有するモノマーと、成分Bとして、酸解離定数pKaがaよりも大きいbであるアニオン性官能基を有するモノマーと、成分Cとして、下記式PI−1又は式PI−2で表される光重合開始剤と、を含有し、bとaとの差が1.5以上10以下であり、成分Aの有するアニオン性官能基のモル当量と、成分Bの有するアニオン性官能基のモル当量との比が、90:10〜50:50である。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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