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非磁性材料分散型Ｆｅ−Ｐｔ系スパッタリングターゲット
- 专利权人:
- ＪＸ金属株式会社
- 发明人:
- 佐藤 敦,高見 英生,中村 祐一郎
- 申请号：
- JP20160172291
- 公开号：
- JP2018035434(A)
- 申请日:
- 2016.09.02
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】Ｆｅ−Ｐｔ磁性相を規則化するための熱処理温度を低下させることが可能なスパッタリングターゲットであって、スパッタ時にパーティクルの発生が抑制されたスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】Ｆｅ、Ｐｔ及びＧｅを含有する非磁性材料分散型のスパッタリングターゲットであって、Ｆｅ、Ｐｔ及びＧｅについて原子数比で（Ｆｅ1-αＰｔα）1-βＧｅβ（α、βは、０．３５≦α≦０．５５、０．０５≦β≦０．２を満たす数）で表される組成を満足する磁性相を有し、該磁性相は、スパッタリングターゲットのスパッタ面に対する垂直断面を研磨したときの研磨面のＥＰＭＡによる元素マッピングにおいて、Ｇｅの濃度が３０質量％以上であるＧｅ基合金相の面積比率（ＳGe30質量%）の平均の、スパッタリングターゲットの全体組成か
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
