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強磁性材料のためのスパッタリングシステム及びスパッタリング方法
专利权人:
インテヴァック インコーポレイテッド
发明人:
ブラウン,ディヴィット,ワード,ブラック,テリー
申请号:
JP20160553468
公开号:
JP2017512255(A)
申请日:
2015.02.19
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
材料をターゲットから基板に堆積させるためのシステムが開示され、該システムは、処理チャンバと、長さLであって、強磁性スパッタリング材料をその前面に備えたスパッタリングターゲットと、ターゲットの背面近くで長さLを往復して走査するように動作可能な磁石アセンブリとを含み、該磁石アセンブリは、磁性材料製であるバックプレートと、ターゲットの背面に対向するように配置された第1の極を有し、バックプレートの中心をなす一列に配列された第1の磁石群と、第1の極と反対であって、ターゲットの背面に対向するように配置された第2の極を有し、第1の磁石群を包囲するようにバックプレートの外周に設けられた第2の磁石群とを含む。【選択図】図9A
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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