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FACIAL MASK COMPOSITION, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
专利权人:
광저우 싱청 이하오 엘티디;GUANGZHOU XINGCHENG YIHAO LTD.
发明人:
ZHENG ZHANG,장젱
申请号:
KR1020180092338
公开号:
KR1020200017118A
申请日:
2018.08.08
申请国别(地区):
KR
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention provides a facial mask composition comprising the following components: (a) 0.01-30 wt% of emollient oil; (b) 0.01-20 wt% of a moisturizer; (c) 0.01-10 wt% of a thickening polymer; (d) 0.01-10 wt% of a skin conditioner; and (e) 10-90 wt% of deionized water. In addition, the skin conditioner is composed of 20 of Schisandra chinensis, 30 of Mesona chinensis, 20 of Lotus leaves, and 30 of watermelon peel. Therefore, the manufacturing method for a facial mask composition can provide a pure natural herbal medicine and can provide a product capable of moisturizing and relieving the skin.COPYRIGHT KIPO 2020본 발명은 하기 성분들을 중량 %로 포함하는 페이셜 마스크(facial mask) 조성물을 제공한다: (a) 0.01% 내지 30%의 에몰리언트 오일(emollient oil); (b) 0.01% 내지 20%의 보습제(moisturizer); (c) 0.01% 내지 10%의 증점 중합체(thickening polymer); (d) 0.01% 내지 10%의 스킨 컨디셔너(skin conditioner); 및 (e) 10% 내지 90%의 탈염수(deionized water)를 포함하고, 상기 스킨 컨디셔너는 오미자(Schisandra chinensis) 20, 선초(Mesona chinensis) 30, 연잎(Lotus leaf) 20 및 수박 껍질(Watermelon peel) 30을 포함한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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