The present invention relates to compounds of the general formula (I) and their pharmaceutically acceptable salts. (In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower cycloalkyl group, aralkyl represents an kilgi or heterocyclic ring, wherein the group is substituted at the ortho, meta and / or para position by one, two, three or four electronic machine or an electron donor； R 2 is A hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group, an aralkyl group or a heterocyclic group, which group is optionally substituted with one or more halogen atoms； R 3 represents a lower alkyl group, an aryl group, an aralkyl group or a heterocyclic group, which group is optionally substituted at the ortho, meta or para position with 1, 2, 3 or 4 electron withdrawing or electron-donating groups； R 4 is A hydrogen atom, a lower alkyl group or all acidic functional groups； And n is 1 or 2). The compounds of the present invention can be used as medicines for the treatment of diseases mainly related to neurogenic and / or oxidative stress.본 발명은 일반식(I)의 화합물 및 이들의 약학적으로 수용가능한 염에 관한 것이다(일반식(I)에서, R1은 수소원자, 저급 알킬기, 저급 알켄닐기, 저급 시클로알킬기, 아릴기, 아랄킬기 또는 헤테로고리기를 나타내며, 상기 기는 1, 2, 3 또는 4개의 전자 인출기 또는 전자 공여기로 오르토, 메타 및/또는 파라 위치에서 치환되고； R2는수소원자, 저급 알킬기, 아릴기, 아랄킬기 또는 헤테로고리기를 나타내며, 상기 기는 하나 이상의 할로겐원자로 선택적으로 치환되고； R3은 저급 알킬기, 아릴기, 아랄킬기 또는 헤테로고리기를 나타내며, 상기 기는 1, 2, 3 또는 4개의 전자 인출기 또는 전자 공여기로 오르토, 메타 또는 파라 위치에서 선택적으로 치환되고； R4는수소원자, 저급 알킬기 또는 모든 산성의 기능기를 나타내고； 그리고 n은 1 또는 2임). 본 발명의 화합물은 주로 신경성 및/또는 산화적 스트레스와 관련된 질병의 치료용 약제로 사용될 수 있다.
